高性能涂层设备

PVD / PECVD /综合

高性能涂层设备

多功能涂层备用用于超硬低摩擦数号

我们禁用系统,能满足客户当前的,能满足客户当前要求。

没有技术配置:

  • 电影
  • 磁控溅射
  • 综合整理机电脑/磁控溅射
  • 综合涂层物理涂层/等等子增强化学学

性能优势:

  • 新闻:HPIES高性能性能子刻蚀系统
  • 高效率
  • 灵活
  • 低运行成本
  • 易于作品
  • 快速便捷的靶材更换
  • 极小的厚度公园
  • 本地技术支持
  • 自我定义
  • 支持涂层工艺多达4个靶座

宽范围的涂层涂层合:

单层 - 多层 - 梯度层 - 纳米层 - 纳米合并材料 - 复式专用涂层涂层合::