新HPIES

光滑涂层的基础是一种无缺陷的蚀刻技术

爱游戏ayx官方PD2i新型高性能离子刻蚀工艺:HPIES -蚀刻的完美精度

  • 改进的腐蚀速率
  • 增强的均匀性+蚀刻后没有液滴=更光滑的涂层
  • 蚀刻可以适应刀具类型(例如:刀片/钻头/立铣刀/滚刀/微型工具)
  • 出色的涂层附着力和明显的积极影响工具性能,使用寿命和再现性
  • 降低对基板材料的影响(例如更好的温度控制)
  • 保存精心准备的刀刃
  • 改善了芯片槽的清洗/蚀刻效果

HPIES
-强烈的腐蚀
——没有滴
放大1200倍

标准METAL-ION-ETCHING
-无蚀刻效果
——滴
放大1200倍

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